高純氮氣

高純氮氣的生成與用途

高純氮氣主要運用在集成電路、半導體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣，化學氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術中，液氫加注系統必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。

高純氮氣現場生產裝置采用低溫工藝流程，生產過程中將有冷量損失，有的高純氮氣生產裝置為此配備了氣體膨脹機產生低溫以補償冷量損失；有的高純氮氣生產裝置雖然采用的仍是低溫精餾流程，但摒棄了補償冷量的機械設備膨脹機，取而代之的是采用外部的液氮直接補償的所需的低溫含量。這種無膨脹機的高純氮氣生產裝置因減少了機械故障而提高了裝置運行的可靠性。